












測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um
測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
25.2~158.4X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.1um
測量精度
重復精度
總放大倍率
物方視場
工作距離
光柵尺解析度

新聞資訊
News時間:11-14 2024 來自:祥宇精密
二次元影像測量儀是一種利用光學影像技術進行二維平面測量的設備。它通過高分辨率攝像頭捕捉被測物體的影像,并利用計算機軟件進行分析和測量。這種設備通常用于檢測電子元件、機械零件、模具等小型工件的尺寸和形狀。
光學系統是影響二次元影像測量儀檢測精度的核心部件。高質量的鏡頭和光源可以顯著提高影像的清晰度和對比度,從而提升測量精度。一般來說,配備高分辨率攝像頭和優質光學鏡頭的測量儀能夠提供更精確的數據。
校準和標定是確保測量精度的重要步驟。通過對標準樣品進行測量和比對,可以修正系統誤差,提高測量結果的準確性。定期進行校準和標定是保持設備良好狀態的關鍵。
先進的軟件算法也是影響檢測精度的重要因素。現代二次元影像測量儀通常配備了復雜的圖像處理和分析軟件,這些軟件能夠自動識別邊緣、計算面積和輪廓等參數。高效的算法可以減少人為誤差,提高測量的重復性和穩定性。
環境條件如溫度、濕度和振動也會影響測量精度。理想的工作環境應該是恒溫、恒濕且無明顯振動干擾的地方。此外,避免強光直射和灰塵污染也有助于提高測量結果的可靠性。
在工業制造領域,二次元影像測量儀常用于檢測電子元件、精密模具和機械零件。其高精度和快速測量能力使得生產效率大大提高。例如,在半導體行業,測量儀可以精確檢測芯片的尺寸和形狀,確保產品質量符合標準。
在科研實驗中,二次元影像測量儀也被廣泛應用。研究人員利用其高精度測量功能,進行材料科學、生物醫學等領域的研究。例如,在材料疲勞測試中,測量儀可以實時監測材料的變形和裂紋擴展情況,為研究提供可靠的數據支持。
在教育培訓領域,二次元影像測量儀成為教學和實驗的重要工具。學生通過操作測量儀,可以學習到先進的測量技術和數據分析方法。這不僅提高了學生的實踐能力,也為未來的就業打下了堅實的基礎。
根據用戶反饋,二次元影像測量儀的檢測精度普遍較高。許多用戶表示,設備的測量結果與實際尺寸非常接近,誤差通常在微米級別。特別是在高要求的精密制造領域,二次元影像測量儀的表現尤為出色。
某知名電子公司的質量控制部門引入了一臺二次元影像測量儀,用于檢測手機主板上的微小元件。經過一段時間的使用,他們發現該設備的測量精度非常高,能夠準確識別出元件的細微變化。這不僅提高了產品的合格率,還大大減少了返工和報廢的成本。
400-801-9255
微信咨詢詳情